서지주요정보
Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
서명 / 저자 Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing / edited by Andre> Bouchoule.
저자명 Bouchoule, Andre>.
발행사항 New York : Wiley, 1999.

소장정보

등록번호

5033746

소장위치/청구기호

학술문화관(도서관)3층 과학기술도서

TA2020 .D88 1999

도서상태

대출중(예약불가)

사유안내

반납예정일

2024.10.02

리뷰정보

서지기타정보

서지기타정보
청구기호 TA2020 .D88 1999
형태사항 viii, 408 p. : ill. ; 24 cm.
언어 English
서지주기 Includes bibliographical references and index.
주제 Plasma engineering.
Plasma (Ionized gases --Industrial applications.
Dust.
Plasma chemistry.
Plasma enhanced chemical vapor deposition.
LCCN 98050683
ISBN 0471973866 (alk. paper)
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