Dry film resist (DFR) is photosensitive film which is generally used for pattern formation through a photolithography process after lamination to the copper sheet of printed circuit board. DFR is made up of a binder polymer and photocurable monomers which are typically based on polyfunctional acrylates. It is cross-linked by exposure to UV light. After the pattern formation using DFR by exposure to UV light, DFR must be completely removed. To remove the DFR, stripper is used a chemical solution that removes the residual DFR after the plating processes. Most of the conventional strippers are composed of tetramethylammonium hydroxide (TMAH). TMAH is a key component of the conventional strippers. However, TMAH is a toxic material to the human body. We have suggested a novel stripper to replace the TMAH component. The novel stripper is based organic ammonium hydroxide, MEA (monoethanol amine) and glycol ether. The novel stripper is less harmful because organic ammonium hydroxide avoids the similarity of acetylcholine which is neurotransmitter. In addition, glycol ether was added in order to improve the performance of the stripper. It improves the solubility of DFR in a stripper and has the important role for better strip performance than the conventional strippers. Furthermore, we separated DFR components using column chromatography for analysis of DFR.
드라이 필름 레지스트는 인쇄회로기판 제작과정 중 회로를 형성하는 과정에서 포토리소그래피 공정을 통해 회로형성을 위해 사용되는 빛에 의해 경화되는 유기 물질이다. 드라이 필름 레지스트는 바인더폴리머와 다기능 아크릴레이트 기를 깆는 빛에 의해 경화되는 모노머로 구성되어있다. 이것은 UV를 조사하면 경화하게 된다. 드라이 필름 레지스트로 패턴형성을 한 후에 사용되어진 드라이 필름 레지스트는 반드시 제거가 되어야 하는데 제거과정에서 화학용액인 박리액를 사용한다. 대부분의 일반적인 박리액은 tetramethylammonium hydroxide(TMAH)가 포함되어 있다. TMAH는 잔류 드리이 필름 레지스트를 제거하는 박리액의 중요 물질이다. 하지만 TMAH는 인체에 해로운 특정 독극물로 우리는 이 TMAH를 대체한 새로운 박리액을 제안하고자 한다. 새로운 박리액은 organic ammonium hydroxide와 monomethanol amine(MEA)를 포함하여 독성을 낮추었고 glycol ether를 첨가제 물질로 하여 기존의 박리액보다 박리 성능을 향상시켰다.
