서지주요정보
직류 플라즈마에 의한 비정질 탄소박막의 제조 = Amorphous carbon film deposition of DC plasma
서명 / 저자 직류 플라즈마에 의한 비정질 탄소박막의 제조 = Amorphous carbon film deposition of DC plasma / 신현의.
저자명 신현의 ; Shin, Hyun-Eoi
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 1993].
Online Access 제한공개(로그인 후 원문보기 가능)원문

소장정보

등록번호

8004111

소장위치/청구기호

학술문화관(문화관) 보존서고

MPH 93033

휴대폰 전송

도서상태

이용가능

대출가능

반납예정일

초록정보

Amorphous carbon film of diamonalike were tried the experiment to the deposition with DC plasma for methane and hydrogen gas mixture. But graphitelike nearly hardcarbon film were achieved at the condition that the chamber pressure is 1 m bar and mixing rate is 10\%. Historical sursey of the system and technique about hard carbon film were arranged. And we maked an experiment of Langmuir probe, OES(Optical emission spectroscopy) for the knowledge of the relation of methane plasma and deposition. The theoritical study for nucleation having a $SiO_2$ layer or not and growth kinetics were proposed. Also experimental method of that were included.

서지기타정보

서지기타정보
청구기호 {MPH 93033
형태사항 [ii], 37 p. : 삽도 ; 26 cm
언어 한국어
일반주기 저자명의 영문표기 : Hyun-Eoi Shin
지도교수의 한글표기 : 장홍영
지도교수의 영문표기 : Hong-Young Chang
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 물리학과,
서지주기 참고문헌 : p. 36-37
주제 Amorphous semiconductors.
Carbon.
Thin films.
Plasma-enhanced chemical vapor deposition.
비정질 반도체. --과학기술용어시소러스
탄소. --과학기술용어시소러스
박막. --과학기술용어시소러스
플라스마 CVD. --과학기술용어시소러스
QR CODE qr code