Among several methodologies developed for designing the mask layout of IC, symbolic layout approach reduces the design cycle and minimizes the design costs by alleviating the attention to be paid to keep up the design rules in layout generation.
In this thesis, a Symbolic layouT EDItor called STEDI and a COmpAcTor called COAT are introduced. While STEDI, which is an interactive editing system implemented in IBM-PC with $NOVA^*GKS$ as graphics routines, produces the symbolic layout in ICDL(Intermediate Circuit Description Languages), COAT inputs ICDL data and generates the corresponding compacted mask layout in CIF(Caltech Intermediate Form). COAT solves the constraint graph with mixed constraints.
반도체 칩의 마스크 레이아우트를 만드는 방법은 여러 가지가 있으나, 심볼？ 레이아우트 어프로치의 경우에는 디자이너가 직접적으로 디자인 룰에 관계하지 않고 풀커스텀 어프로치만큼 콤팩트한 마스크 레이아우트를 만들 수 있다. 그리고 디자인 룰이 바뀌더라도 단지 그것에 관계된 마스터 테크놀로지 파일의 내용만 바꾸면, 디자인 룰에 벗어 나지않는 마스크 레이아우트를 심볼？ 레이아우트로부터 쉽게 만들 수 있으므로 디자인 사이클을 줄일 수 있다. 이 논문에서는 심볼？ 레이아우트 에디터와 컴팩터를 IBM-PC상에 제작하여 심볼？ 레이아우트 어프로치에 의한 마스크 레이아우트 제작을 실현하였다.
심볼？ 레이아우트 에디터와 컴팩터에 마스터 테크놀로지 파일을 연관시키므로서 심볼의 형태나 디자인 룰의 변화에 대해 유연성을 갖게하였다. 심볼？ 레이아우트 에디터는 ICDL형태의 파일을 출력하고 컴팩터는 그 파일을 받아서 CIF형태의 마스크 레이아우트를 만든다. 컴팩션 알고리즘으로 constraint graph를 이용한 C.K Wong의 것을 사용하였다.
