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소장자료

상세 정보
서명 / 저자 Ultrathin adhesive film development via initiated chemical vapor deposition = 개시제를 이용한 화학적 기상증착공정을 통한 접착용 초박막 개발 / Do heung Kim.
저자명 Kim, Do heung ; 김도흥
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 2016].
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Online Access /thesis_pdf_02/2016/2016M02014...  원문
서가 정보
등록번호 소장위치/청구기호 도서상태 반납예정일
8029026 학술문화관(문화관) 보존서고
MCBE 16003  

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이용가능
대출가능확인

초록

상세 정보
형태사항 iv, 36 p. : 삽도 ; 30 cm
언어 영어
일반주기 저자명의 한글표기 : 김도흥
지도교수의 영문표기 : Sung Gap Im
지도교수의 한글표기 : 임성갑
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 생명화학공학과,
서지주기 References : p. 30-32
주제 initiated chemical vapor deposition
iCVD
amine epoxy reaction
adhesive
lamination
encapsulation
아민에폭시반응
접착
접착식 봉지막
iCVD
봉지막
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