A system for generating VLSI mask pattern check plots from CIF(Caltech Intermediate Form) file is proposed in this thesis. This system have a translator that translate the CIF file for VLSI layout description into a resultant FORTRAN drawing program. Also, without converting the CIF file into a resultant FORTRAN drawing program this system can draw VLSI mask pattern check plots from the CIF file directly. And this system provides a pattern generation file for pattern generation and a mask artwork data file.
A grammar of the CIF is analyzed, and the modified grammar is proposed for this system. This system has a number of interactive command line options. These command line options allow us to determine which device we want to plot on, the layers we want plotted, the window size for our plot, whether to shade, and such plot control parameters as output device types, layer names, window sizes.
본 논문에서는 CIF(CALTECH Intermediate Form) 화일로부터 VLSI 마스크 패턴 검사 도면들을 발생하기 위한 시스템을 제안하였다. 본 시스템은 CIF 화일을 결과 FORTRAN 프로그램으로 번역하는 번역기와 그래픽 장치에 관계없이 검사 도면을 얻을 수 있는 Drawing System, 설계상의 오류와 회로 추출을 위한 Pattern Generation 화일과 Mask Artwork 화일로 구성되어 있다.
사용자가 제공한 조건에 따라서 그래픽 장치의 종류, 원하는 Layer 검사 도면의 크기 등을 결정한 다음, CIF 화일을 입력으로 받아 본 시스템에 의하여 처리되어 VLSI 마스크 패턴 검사 도면과 Pattern Generation 화일과 Mask Artwork Data 화일을 발생한다.
