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Si+x-wt.% $Si_3N_4$ 계에서의 질화반응에 관한 연구 = A study on the nitridation in Si+x-wt% $Si_3N_4$ systems
서명 / 저자 Si+x-wt.% $Si_3N_4$ 계에서의 질화반응에 관한 연구 = A study on the nitridation in Si+x-wt% $Si_3N_4$ systems / 이전국.
발행사항 [서울 : 한국과학기술원, 1983].
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4102292

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MMS 8317

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Experiments nitriding silicon with addition of $Si_3N_4$ have provided information on the effects of such inclusion on the phase relationships of Reaction Bonded Silicon Nitride. In the current work, specimens containing 0-25 wt.% $Si_3N_4$, which have 55.5wt.% α, 4.5wt.% β, 40wt.% Amorphous phase, were nitrided for 7-20 hours at 1300-1350℃. The evaluation of nitridation was performed by means of α-and β-phase contents determination in nitrided specimens. In order to observe nitrided region between silicon and silicon nitride, scanning electron microscopy was used to study reacted region between silicon and silicon nitride particle. For this purpose, semiconductor-grade silicon wafer single crystal was used as a silicon source. The incorporation of small amount of $Si_3N_4$ "Seed" materials does indeed switch the balance of product. As the $Si_3N_4$ power is added, the amount of reaction is increased. Added $Si_3N_4$ powder is contributed to enhancing the rate of formation of α-phase.

서지기타정보

서지기타정보
청구기호 {MMS 8317
형태사항 iii, 50 p. : 삽화 ; 26 cm
언어 한국어
일반주기 저자명의 영문표기 : Jeon-Kook Lee
지도교수의 한글표기 : 김종희
지도교수의 영문표기 : Chong-Hee Kim
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 재료공학과,
서지주기 참고문헌 : p. 47-50
주제 Silicon nitride.
Amorphous substances.
Scanning electron microscopy.
질화. --과학기술용어시소러스
비정질. --과학기술용어시소러스
전자 현미경 관찰. --과학기술용어시소러스
단결정. --과학기술용어시소러스
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