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소장자료

상세 정보
서명 / 저자 TCE 가 실리콘 산화공정에 미치는 영향 = The effects of TCE on the silicon oxidation process / 최태현.
저자명 최태현 ; Choi, Tai-Hyun
발행사항 [서울 : 한국과학기술원, 1982].
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서가 정보
등록번호 소장위치/청구기호 도서상태 반납예정일
4101742 학술문화관(문화관) 보존서고
MEE 8233  

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초록

상세 정보
형태사항 [ii], 46, [50] p. : 삽도 ; 26 cm
언어 한국어
일반주기 부록 : 1, 고주파 C-V Curve. - 2, C-t curve 와 zerbst plot
저자명의 영문표기 : Tai-Hyun Choi
지도교수의 한글표기 : 김충기
지도교수의 영문표기 : Choong-Ki Kim
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 전기 및 전자공학과,
서지주기 참고문헌 : p. 42-45
주제 Trichloroethylene.
Metal oxide semiconductors.
Breakdown voltage.
MOS 집적회로. --과학기술용어시소러스
고온 산화. --과학기술용어시소러스
Electrolytic oxidation.
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