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소장자료

상세 정보
서명 / 저자 UBM용 Ni 박막 형성 및 특성에 관한 연구 = Fabrication and characterization of the Ni films for the Applications to UBM / 김응도.
저자명 김응도 ; Kim, Eung-Do
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 2005].
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Online Access /thesis_pdf_02/2005/2005M02003...  원문
서가 정보
등록번호 소장위치/청구기호 도서상태 반납예정일
8016112 학술문화관(문화관) 보존서고
MAME 05009  

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초록

상세 정보
형태사항 iii, 77 p. : 삽도 ; 26 cm
언어 한국어
일반주기 저자명의 영문표기 : Eung-Do Kim
지도교수의 한글표기 : 이원종
지도교수의 영문표기 : Won-Jong Lee
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 신소재공학과,
서지주기 참고문헌 : p. 73-74
주제 니켈 씨드층
ICP enhanced bias sputtering
무전해 도금
하부금속층
접착력
스크레치 테스트
Ni seed layer
ICP enhanced bias sputtering
Electroless plating
UBM
adhesion
scratch teston
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