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UV와 전자빔을 이용한 저온 플라즈마 생성에 관한 연구 = Study on low temperature plasma generation with UV and electron beam(e-beam)
서명 / 저자 UV와 전자빔을 이용한 저온 플라즈마 생성에 관한 연구 = Study on low temperature plasma generation with UV and electron beam(e-beam) / 채수항.
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 2004].
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8014822

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학술문화관(문화관) 보존서고

MPH 04024

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초록정보

For generation of the low electron temperature plasma, new type of plasma generation is introduced. Electron beam makes excitation of neutral gas(Ar), and UV photon assists ionization of excited gas(Ar*). Beam of acceleration voltage is 20V, of current is 350μA. The wavelength of UV source is in the range of 250nm and 680nm. First, e-beam plasma parameters(Te, Ne) are measured by planar probe. Then after UV source irradiates plasma, changing plasma parameters are measured. Electron density and temperature increases, and low velocity electrons increase also.

서지기타정보

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청구기호 {MPH 04024
형태사항 iv, 32 p. : 삽도 ; 26 cm
언어 한국어
일반주기 저자명의 영문표기 : Soo-Hang Chae
지도교수의 한글표기 : 장홍영
지도교수의 영문표기 : Hong-Yong Chang
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 물리학과,
서지주기 참고문헌 수록
주제 저온 플라즈마
전자빔
자외선
low temperature plasma
electron beam
UV
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