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소장자료

상세 정보
서명 / 저자 (A) study on plasma-enhanced atomic layer deposition of Ta-Si-O thin films = 탄탈륨 실리콘 산화막의 플라즈마 원자층 증착법에 관한 연구 / Hyun-Jung Song.
저자명 Song, Hyun-Jung ; 송현정
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 2003].
online access
Online Access /thesis_pdf_01/2003/2003D00098...  원문
서가 정보
등록번호 소장위치/청구기호 도서상태 반납예정일
8014356 학술문화관(문화관) 보존서고
DMS 03012  

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초록

상세 정보
형태사항 xiii, 131 p. : 삽도 ; 26 cm
언어 영어
일반주기 저자명의 한글표기 : 송현정
지도교수의 영문표기 : Sang-Won Kang
지도교수의 한글표기 : 강상원
수록잡지명 : " Increment of the dielectric constant $Ta_2O_5$ thin films by retarding interface oxide growth on si substrates". Electrochemical and solid-state letters , v. 4, pp. F13 (2001)
학위논문 학위논문(박사) - 한국과학기술원 : 재료공학과,
서지주기 Reference : p. 129-131
주제 peald
Ta-Si-O
atomic layer deposition
$Ta_2O_5$
플라즈마 원자층 증착법
탄탈륨 실리콘 산화막
원자층 증착법
탄탈륨 산화막
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