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소장자료

상세 정보
서명 / 저자 Molecular dynamics simulations of plasma etching processes for microelectronics processing applications = 분자모델링을 이용한 플라즈마 식각공정의 해석 / Dong-Ho Kim.
저자명 Kim, Dong-Ho ; 김동호
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 2002].
online access
Online Access /thesis_pdf_01/2002/2002D00098...  원문
서가 정보
등록번호 소장위치/청구기호 도서상태 반납예정일
8013391 학술문화관(문화관) 보존서고
DCBE 02010  

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초록

상세 정보
형태사항 x, 137 p. : 삽도 ; 26 cm
언어 영어
일반주기 Appendix : A, Analytic gradients. - B, Two-center integrals
저자명의 한글표기 : 김동호
지도교수의 영문표기 : Do-Hyun Kim
지도교수의 한글표기 : 김도현
수록잡지명 : "Molecular dynamics simulation of energetic ion bombardment onto a-Si3N4 surfaces". Journal of crystal growth, v.230 Aug., pp. 285-290 (2001)
학위논문 학위논문(박사) - 한국과학기술원 : 생명화학공학과,
서지주기 Reference : p. 112-126
주제 plasma etching
sputtering
molecular dynamics simulations
computer simulation
플라즈마 에칭
스퍼터링
분자모델링
컴퓨터 시뮬레이션
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