서지주요정보
저유전율 박막 제조 공정을 위한 자외선 소스의 개발 = Development of UV source for low dielectric material processing
서명 / 저자 저유전율 박막 제조 공정을 위한 자외선 소스의 개발 = Development of UV source for low dielectric material processing / 정원봉.
저자명 정원봉 ; Jung, Won-Bong
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 2002].
Online Access 원문보기 원문인쇄

소장정보

등록번호

8012665

소장위치/청구기호

학술문화관(문화관) 보존서고

MPH 02025

SMS전송

도서상태

이용가능

대출가능

반납예정일

초록정보

Microwave induced sulfur discharge was generated by 2.45GHz microwave generator for low dielectric material processing. Sulfur discharge was generated in a quartz ball which sealed with a few sulfur powder and hundred militorr argon buffer gas. The measurement of optical spectrum was found that the most of emission occurred at UV range. Form these results the character of sulfur discharge will be discussed

저유전율 박막 제조를 위해서 2.45GHz 마이크로파를 이용한 황 방전을 일으켰다. 황방전은 수백토르의 아르곤 가스와 수밀리그램의 황가루를 넣고 밀봉한 수정구에서 이루어졌다. 스펙트럼 측정결과 대부분의 광방출이 자외선 영역에서 이루어짐을 발견했다. 이런한 결과들로부터 황방전의 특성에 대해 논의 한다.

서지기타정보

서지기타정보
청구기호 {MPH 02025
형태사항 [iii], 35 p. : 삽도 ; 26 cm
언어 한국어
일반주기 저자명의 영문표기 : Won-Bong Jung
지도교수의 한글표기 : 장홍영
지도교수의 영문표기 : Hong-Young Chang
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 물리학과,
서지주기 참고문헌 수록
주제 자외선
저유전율
황 방전
마이크로파
uv
low dielectric
sulfur discharge
microwave
QR CODE qr code