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소장자료

상세 정보
서명 / 저자 DC reactive sputtering법을 이용한 $RuO_x$ 하부전극 형성과 고유전 $(Ba,Sr)TiO_3$ 박막의 특성 평가에 관한 연구 = Preparation of $RuO_x$ bottom electrode by DC reactive sputtering and characterization of $(Ba,Sr)TiO_3$ thin films / 안준형.
저자명 안준형 ; Ahn, Joon-Hyung
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 1998].
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Online Access /thesis_pdf_01/1998/1998D00094...  원문
서가 정보
등록번호 소장위치/청구기호 도서상태 반납예정일
8009207 학술문화관(문화관) 보존서고
DMS 98029  

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초록

상세 정보
형태사항 iv, 156 p. : 삽도 ; 26 cm
언어 한국어
일반주기 저자명의 영문표기 : Joon-Hyung Ahn
지도교수의 한글표기 : 김호기
지도교수의 영문표기 : Ho-Gi Kim
수록잡지명 : "Annealing of $RuO_2 $ and Ru Bottom Electrodes and Its Effects on the Electrical Properties of (Ba,Sr)Ti$O_3 $ Thin Films". Jpn. J. Appl. Phys.. Jpn. J. Appl. Phys., vol. 37, no. 1 284~298, pp. 284-289 (1998)
학위논문 학위논문(박사) - 한국과학기술원 : 재료공학과,
서지주기 참고문헌 : p. 152-156
주제 DC 반응성 스퍼터링
RuOx
(Ba,Sr)TiO3
하부전극
누설전류
DC reactive sputtering
RuOx
(Ba,Sr)TiO3
Bottom electrode
Leakage current
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