서지주요정보
(The) photolithography simulation using the finite element method = 유한요소법을 이용한 Photolithography simulation
서명 / 저자 (The) photolithography simulation using the finite element method = 유한요소법을 이용한 Photolithography simulation / Hun-Soo Hong.
저자명 Hong, Hun-Soo ; 홍헌수
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 1997].
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MPH 97030

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초록정보

The most fundamental building block of the implementation of the finite element method is presented to be a guideline to the posterior coders of the finite element method. Using the finite element method, the solution of the 2-dimensional Maxwell's equations which results from the problem of an infinitely long antenna oscillating along z-axis is obtained and compared to its exact solution. To solve those equations a various of the perfectly matched layer schemes are applied and compared with each other, and of which some discussions are presented. Using the finite element method and the perfectly matched layer scheme, the solutions of the simple 2-dimensional problems of the light phenomena are obtained and, using their results the simulations of the photolithography are presented.

z-축 방향으로 진동하는 무한이 긴 안테나인 경우의 Maxwell방정식을 유한 요소법을 사용하여 풀어보았다. 그 문제는 analytic solution을 구할 수 있으므로, 유한 요소법을 사용하여 구한 결과와 analytic solution을 비교하여 보았다. Electromagnetic problem은 대체적으로 무한히 먼 거리에도 그 효과가 미치는데 반하여 유한 요소법은 한정된 범위내에서 문제를 풀어야 하기 때문에 유한요소법을 사용하여 electromagnetic problem을 풀 경우에는 유한요소법의 문제 구간의 경계에서는 적당히 boundary를 처리해 주어야 한다. 이런 처리 방법에는 여러 가지가 있으나 최근에 발표된 바에 따르면, perfectly matched layer를 적용하는 방법에는 여러 가지가 있는데, 좋은 boundary 처리가 이떤 것인가를 알아내기 위해서 여러 가지 방법으로 이 perfectly matched layer방법을 찾아보았다. 찾아낸 perfectly matched layer 구현 방법으로는, 대체적으로, perfectly matched layer의 두께는 electromagnetic wave의 파장의 반정도보다 큰 경우에 비교적 좋은 결과를 주었고, perfectly matched layer의 특성이라고 할 수 있는 베타는 그 order가 1보다 큰 경우에 비교적 좋은 결과를 주었다. Perfectly matched layer의 이런 구현 방법과 유한 요소법을 사용하여 간단한 electromagnetric problem이라고 할 수 있는 light diffraction을 simulation하였다. 이 light diffraction으로 얻어진 light의 electric field의 distribution을 이용하여 간단한 photolithography를 simulation하였다. 또 주어진 light intensity distribution을 이용하여 간단한 photolithrography를 simulation하였다. Urbach가 제시한 incident light를 구하는 방법을 이용하면 incident light의 coherent parameter를 고려할 수 있기 때문에 좀더 physical한 simulation을 할 수 있었다. 이 coherent parameter를 바꾸어 simulation한 결과, incident light로는 partially coherent light가 좀더 선명한 상을 얻는데 적당함을 관찰하였다.

서지기타정보

서지기타정보
청구기호 {MPH 97030
형태사항 ii, 97 p. : 삽도 ; 26 cm
언어 영어
일반주기 Appendix : A, two dimensional finite element analysis. - B, The finite element routines of 2-dimensional case
저자명의 한글표기 : 홍헌수
지도교수의 영문표기 : Soo-Yong Kim
지도교수의 한글표기 : 김수용
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 물리학과,
서지주기 Reference : p. 56-57
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