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소장자료

상세 정보
서명 / 저자 0.25mm 광리소그래피 결상에 존재하는 근접효과와 그 감소 방안에 관한 연구 = A study of the proximity effect present in the image forming process of the 0.25 micrometer photolithography and its reduction / 정진만.
저자명 정진만 ; Jeong, Jin-Man
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 1996].
서가 정보
등록번호 소장위치/청구기호 도서상태 반납예정일
8007005 문지 보존서고
MMS 96050  

SMS전송 소장위치

이용가능
대출가능확인

초록

상세 정보
형태사항 vi, 64 p. : 삽도 ; 26 cm
언어 한국어
일반주기 저자명의 영문표기 : Jin-Man Jeong
지도교수의 한글표기 : 전덕영
지도교수의 영문표기 : Duk-Young Jeon
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 재료공학과,
서지주기 참고문헌 : p. 63-64
주제 근접효과
홉킨스 이론
부분간섭성
미세리소그래피
삼위상형 위상반전매스크
Proximity effect
Hopkins theory
Partial coherence
Microlithography
Tri-phase type PSM
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