The wet chemical method, which is mainly used to prepare a single crystal surface with a low Miller index at normal pressure, has been studied systematically for each parameter. In this study, changes in the type and concentration of acid used in the etching step of titanium dioxide, the change of gas used in the heat treatment step of the surface, and the change of the ultraviolet-ozone treatment with time were analyzed by atomic force microscope, low energy electron diffraction, And surface analysis was conducted through photoelectron spectroscopy. The results of this study can be important guidelines in future study of titanium dioxide using wet chemical method.
상압 표면에서 낮은 밀러 지수를 가진 단결정 표면을 준비하는 데에 주로 쓰이는 습식 화학적 방법에 대해, 기존 연구가 미비하였기에 각각의 변수 인자에 대한 체계적인 연구를 진행하였다. 이번 연구에서는 이산화티타늄의 식각 단계에서 사용하는 산의 종류 및 농도의 변화, 표면의 열처리 단계에서 사용되는 기체의 변화 및 자외선-오존 처리의 시간에 따른 변화에 대해 원자 현미경 및 저 에너지 전자 현미경, 엑스선 광전자 분광법 등을 통해 표면 분석을 각각 진행하였다. 이 연구 결과는 앞으로 습식 화학적 방법을 이용한 이산화티타늄을 연구할 때 중요한 길라잡이가 될 수 있다.