Specifically arranged roughness on natural surfaces can be exciting and unique physical effect such as anisotropic de-wetting, pressure resistance and so on. However, precise investigation of the roughness arrangement effect is hard to be achieved since the geometrical wetting variables are differed with roughness arrangement variation and it induces significant difference of static contact angle, hysteresis and wetting state. In this study, to confirm the roughness arrangement effect on static contact angle we arranged the hexagon periodicity using Moir$acute{e}$ effect and phase shift photolithography. With fixed conventional wetting variables, apparent contact angles increase as hexagon periodicity decreases. In addition, as a result of combination the hexagon ridge and geometrical free energy distribution during liquid evaporation process we observed selectively aligning the surfactant at the hexagon ridge regardless of hexagon periodicity. Our result is expected to elucidate the key morphological factor that govern the physics of static contact angle on the structured solid surfaces.
자연계의 표면에서 관찰되는 특정한 모양으로 배열되있는 표면 거칠기는 고유한 물리적 현상을 유발한다. 그 예로는 방향성을 갖는 액체의 흐름, 압력에 대한 저항성 등이 있다. 하지만 이러한 특정한 배열을 갖는 표면 거칠기에 대한 정확한 연구가 부재되어있는 상황이다. 기존의 표면 거칠기의 변화를 주는 실험에서는 이러한 거칠기의 변화가 표면 거칠기 값 등과 같은 표면 구조 고유의 변수를 바꾸기 때문에 표면의 접촉각, 히스터리시스 등에 큰 영향을 끼쳐 정확한 거칠기의 변화에 대한 표면 효과를 판단하기 어렵다. 따라서 우리는 이연구에서 표면 구조 고유의 변수를 변화 시키기 않으면서 패턴의 모양을 바꾸면서 표면 거칠기의 고유 물리적 특성을 보고자 하였다. 이 연구에서 상 변화 광리소그래피를 이용하여 육각 구조의 사이즈를 바꾸면서 이러한 사이즈의 변화가 표면의 액체 접촉각에 어떠한 영향을 끼치는지 확인하였다.