A vacuum ultraviolet photolysis of vinyl bromide at 184.9 nm (154. 6kcal/mol) has been studied over the pressure range of 2-50 Torr at room temperature using the low pressure mercury are resonance lamp. The result demonstrates the two decomposition mode, i.e., one for molecular elimination of HBr to form acetylene, and the other for C-Br bond cleavage to form vinyl radical. The major products of the reaction were $C_2H_2$, $C_2H_4, 1,3-$C_4H_6$, $C_2H_5Br$, and $CH_3CHBr_2$. The branching ratio between the molecular elimination and the radical process were 0.56 to 0.44.
The $H_2S$ was added as a radical capture to obtain information about the primary process. The pressure effect by adding inert gas, i.e., $SF_6$ and He, was also observed in the presence and absence of $H_2S$. The ratio of quantum yield, $\Phi(C_2H_2)/\Phi(C_2H_4)$, was decreased as the pressure increased in the absence of $H_2S$, but that was constant as the pressure increased in the presence of $H_2S$. This observation may be attributed by the fact that "hot" vinyl radical, produced from C-Br bond cleavage, decompose to acetylene and hydrogen atom. This process has been quenched by addition of $H_2S$ or inert gas.
부로모 에틸렌의 광분해 반응을 저압 수은 아크 공명 램프의 184.9nm에서 조사했다. 실험은 실온, 3 Torr의 비닐 부로마이드, 그리고 다양한 부가물을 넣은 조건에서 수행했다. 주요 생성물은 아세틸렌, 에틸렌, 1,3-부타디엔, 에틸부로마이드, 그리고 1,1-디부로모에탄이었으며, 부로모아세틸렌과 1,2-디부로모에탄은 극히 미량 생성되었다.
일차과정에 대한 정보를 얻기위하여 라디칼 캡춰로서 $H_2S$, 라디칼 스케빈저로서 NO를 사용하였다. 그 결과 아세틸렌의 대부분은 HBr의 제거반응으로부터 생성되며, 그리고 다른 생성물들은 라디칼의 반응으로부터 생성되었다. 즉, 여기된 비닐부로마이드는 일차적으로 HBr분자 제거반응과 비닐라디칼이 생성되는 반응의 두가지 경로를 가졌다. 이 두가지 경로의 비는 56 : 44 이었다.
$H_2S$를 첨가했을때 아세틸렌의 양은 약간 감소, 에틸렌의 양은 크게 증가하였으며 또한, 충돌짝의 압력이 증가함에 따라 아세틸렌 대 에틸렌의 양자수율의 비는 점점 감소했다. 이것으로 부터 생성된 비닐라디칼은 일부분 아세틸렌과 수소원자로 분해함을 알았다. 그러나, $H_2S$.존재하에서 충돌짝의 압력증가는 위의 양자수율의 비에 영향을 주지않았다.
1,3-부타디엔은 비닐 라디칼과 비닐 부로마이드사이의 불균등화 반응으로부터 생성되며, 에틸 부로마이드와 1,1-디부로모 에탄은 같은 프리커서 (precursor)을 가지며, Br 원자는 비닐 부로마이드에 첨가반응을 하지않고 다른 라디칼과 재 결합 하였다.
