The need for more precise process has increased since width of device decreases and transistors density per wafer increases. Multiple ICP source using several small sources in parallel connection ignite high-density plasma at low temperature and low pressure because more power can be applied. Also uniform plasma can be ignited because power can be equally distributed to each coil. In this thesis, we study basic characteristics of 1-coil based on the electrical characteristics trend on mode transition and calculated result from circuit model. We investigate on power distribution characteristics, pressure and frequency dependance for multiple ICP sources based on 2-coil experiment.
게이트 선폭의 감소 및 고집도로 인해 반도체 공정에서 정교하고 미세한 공정의 필요성이 커지고 있다. 여러 개의 작은 유도 결합 플라즈마 발생 장치를 병렬 연결한 다중 유도 결합 플라즈마 발생 장치는 기존 장비와 비교해서 더 많은 파워를 공급할 수 있기 때문에 저온 저압 공정이 가능한 고밀도 플라즈마를 발생 시킬 수 있다. 또한 각 코일의 균등한 파워 공급이 가능해 플라즈마가 균일하게 방전된다. 본 논문에서는 1개의 코일을 이용한 실험에서 방전 모드에 따른 전기적 특성 변화와 회로 모델에서 얻을 수 있는 계산 값을 통해 기본 특성을 분석했다. 이를 바탕으로 다중 유도 결합 플라즈마의 기본 구성인 2개의 코일을 이용한 실험을 통해 전력 분배의 특성을 파악하고, 압력 및 주파수에 따른 다중 유도 결합 발생 장치의 특성에 대해 연구했다.
