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스텔스 다이싱 공정 하의 DAF 물성 및 칩 형상에 따른 칩 간격 경향성 분석 = Tendency analysis of kerf width depending on DAF properties and chip's shape in the stealth dicing process
서명 / 저자 스텔스 다이싱 공정 하의 DAF 물성 및 칩 형상에 따른 칩 간격 경향성 분석 = Tendency analysis of kerf width depending on DAF properties and chip's shape in the stealth dicing process / 최선아.
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 2016].
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Nowadays, a number of electronic devices are getting to be thin and light-weight. It is in the process of raising degree of integration in order to meet the consumer needs like higher performance and low power. So there are many methods of electronic packaging which can increase the operating speed and reduce the power consumption. However, there is a problem that the chip easily damaged during the wafer dicing and chip thinning process. For solving this, it has been researching various processes to minimize damage. One of the most typical methods is packaging process using DAF (Die Attach Film). The goal of this study is to draw the DAF characteristic factors and analyze tendency in dicing process of thin silicon wafer through FEM (Finite Element Method) using ABAQUS. SD (Stealth dicing) is dealt with in this research. After modeling geometry and boundary conditions which can indicate the SD process effectively, we found major factors related to the chip interval, called the kerf width. During the expanding process, MD (Mechanical Direction)’s kerf width is slightly longer than TD (Transverse Direction)’s due to the differences of properties between the DAF direction. In addition, we analyzed the results by comparing with DAF having different properties. Finally, we discovered that elastic modulus and Poisson’s ratio make a big difference to the kerf width. Therefore, we expect that this packaging process will be able to raise efficiency of wafer dicing pro-cess by estimating optimized DAF factors according to the shape of the chip and process conditions.

반도체 시장의 발달에 따라 많은 종류의 전자 장치들이 얇고 가벼워지는 추세이다. 또한 더 높은 성능을 원하는 소비자의 욕구를 충족시키기 위하여 전자 부품의 집적도가 높아지고 있다. 이에 따라 수행 속도를 높이고 전력 소모를 줄일 수 있는 다양한 전자 패키징 방법이 고려되고 있다. 하지만 웨이퍼를 얇게 연마하고 분할하는 공정에서 칩이 쉽게 손상되는 문제가 있었다. 이러한 단점을 최소하기 위하여 다양항 공정 방법들이 연구되고 있으며, 그 중에서 가장 대표적인 것이 DAF를 이용한 패키징 공정이다. 본 연구의 목표는 ABAQUS를 활용한 유한요소해석을 통해 박막 실리콘 웨이퍼 분할 공정 하의 DAF 특성 인자 및 경향성을 파악하는 것이다. 다양한 칩 분할 공정 중에서도 스텔스 다이싱 공정에 초점을 맞추어 연구를 진행하였다. 다음 공정을 가장 효과적으로 나타낼 수 있는 형상 및 공정 경계 조건을 모델링하고, 칩 간격에 영향을 주는 주요 인자를 찾았다. 인장 공정에서 DAF의 방향별 물성 차이로 인해 MD 칩 간격이 TD 칩 간격보다 약간 길게 나타나는 것을 확인했다. 또한 DAF의 물성에 따른 해석 결과를 통해서 탄성계수와 푸아송비가 칩 간격에 가장 큰 영향을 미친다는 것을 알 수 있었다. 따라서 칩의 형상, 공정 조건에 따라 최적화된 DAF 물성 값을 예측함으로써 칩 개별화 공정 효율성을 높일 수 있을 것이라 기대한다.

서지기타정보

서지기타정보
청구기호 {MME 16041
형태사항 viii, 59 p. : 삽화 ; 30 cm
언어 한국어
일반주기 저자명의 영문표기 : Sun A Choi
지도교수의 한글표기 : 이순복
지도교수의 영문표기 : Soon-Bok Lee
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 기계공학과,
서지주기 참고문헌 : p. 54-56
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