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평면 표시기용 구동 회로를 위한 저온 공정 박막 크랜지스터와 Shift register의 제작 = Fabrication of Poly-Si TFT and shift register for LCD driver by low-temperature process
서명 / 저자 평면 표시기용 구동 회로를 위한 저온 공정 박막 크랜지스터와 Shift register의 제작 = Fabrication of Poly-Si TFT and shift register for LCD driver by low-temperature process / 김태성.
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 1992].
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8003058

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MEE 92022

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Thin-film transistors(TFT's) were fabricated in low-temperature(600℃) crystallized amorphous LPCVD silicon films. A channel layer was crystallized using a capping layer in $N_2$ ambient at 600℃ for 24 hours, and an LPCVD oxide film was used as a gate dielectric material. These devices were found to have a mobility of about 20㎠/V·s, a threshold voltage of about 12.5 V, an inverse subthreshold slope of about 2.73 V/decade, and a maximum ON/OFF current ratio of about 1x$10^5$ after hydrogenation for 3 hours. A fabricated 1-bit shift register using these devices showed a maximum operation frequency of 3 kHz under a capacitive load of 15 pF. SPICE simulation was performed to know electrical performances of shift register. As a result, it was found that for normal operation, a drain bias voltage must be as high as 37 V, a input voltage swing as high as 20 V, and clock pulse height as high as 30 V.

서지기타정보

서지기타정보
청구기호 {MEE 92022
형태사항 [iii], 65 p. : 삽화 ; 26 cm
언어 한국어
일반주기 저자명의 영문표기 : Tae-Sung Kim
지도교수의 한글표기 : 김충기
지도교수의 영문표기 : Choong-Ki Kim
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 전기및전자공학과,
서지주기 참고문헌 : p. 58-65
주제 Shift registers.
Liquid crystal displays.
Vapor-plating.
Silicon oxide films.
박막 트랜지스터. --과학기술용어시소러스
액정 표시기. --과학기술용어시소러스
시프트 레지스터. --과학기술용어시소러스
LPCVD. --과학기술용어시소러스
규소 착화합물. --과학기술용어시소러스
Thin film transistors.
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