Under the spotlight on green chemistry, there has been increasing interest in developing a new type of resist which is eco-friendly, water castable or water developable. These resists would offer not only environmental friendlyness but also reduce the manufacturing cost. Most of water-processable photoresist systems contain photoacid generators to obtain high sensitivity. The photoacid generators are low molecular weight and possibly toxic compounds which might eventually pollute the environment. We could solve the problems related to the chemically amplified resists systems by using diazoketo groups as photoactive components.
최근 산업 분야 전반에 환경에 대한 중요성이 크게 부각되면서 환경 규제 강화에 대한 요구가 지속적으로 증가하고 있으며, 경제o사회o환경이 연계된 국제환경협약에 대한 대비가 필수적이다. 기존에 개발된 레지스트의 경우 유기용매로 희석시켜 용액을 만들고, 유기 용매 또는 유기 염기가 함유되어 있는 수용액으로 현상함으로써, 환경오염을 야기시시키고 인체에 유해하고 레지스트를 이용한 공정 과정에서의 공정비용을 증가시킨다.
본 논문에서는 환경 친화적인 수용성 포토레지스트는 수용성 수지를 사용하기 때문에 현상 공정에 유독성의 TMAH를 사용하리 필요가 없으며, 이로 인하여 환경오염 문제 개선이 가능하고 공정 절감 효과가 있다. 또한 기존 리소그래피 공정에 사용하던 유기 포토레지스트의 구성물질인 PAC(Photo Active Compound) 및 Metrix resin을 광활성 수지로 대체하여 생산 원가절감이라는 이점을 가진 새로운 물질을 합성을 하였다. 이 물질은 디아조케토(diazoketo) 그룹을 포함하여 빛에 의해 울프리어레인지먼트 (Wolff rearrangement) 반응이 일어나 용해도가 변하게 되고 물질 자체에 광 반응기를 포함하고 있기 때문에 다른 첨가제를 넣지 않아도 되어 반응후에 생기게 되는 부산물이 생기지 않는 장점을 가지고 있어 발생될 문제점들을 보완할 수 있다.
