Recently, maskless lithography comes to the forefront because of increasing the cost of masks. Instead of the mask, point lights which expose a substrate selectively can be applicable for maskless lithography. In order to using point lights in lithography, polygons which are going to be patterned on a substrate should be rasterized. However there are massive polygons to be rasterized. it needs lots of time and memory space.
In this paper, we focus on how to raterize massive polygons efficiently which are patterned on LCD glass. Our approach consists of two steps. First step is to calculate scan segments per scanline. For rapid calculation in first step, a slab structure for a pattern is constructed. Second step is to transfer scan segments calculated in previous step to a moving unit. By performing incremental update where the point lights whose states are changed are updated instead of updating all point lights’ state, data transfer becomes much more efficient.
노광 공정에서 사용되는 포토마스크의 제작 비용 증가에 따라 마스크를 사용하지 않는 노광 기술이 주목 받고 있다. 마스크의 한 가지 대안으로 점 광원을 활용할 수 있는데, 이 때 점 광원은 빛을 선택적으로 조사하는 역할을 한다. 다수의 점 광원 배열을 마스크가 필요 없는 노광 기술에 사용하기 위해서 노광될 할 패턴들은 래스터화 되어야 한다. 그러나 기존의 방법으로 대용량의 폴리곤을 래스터화 하고 실제 노광을 위해 래스터화 된 데이터를 노광 장치로 전송하는데 많은 시간과 공간이 필요하다.
이 논문에서는 LCD 공정에서 사용되는 폴리곤들을 효율적으로 래스터화 하여 노광 시키는 방법을 제안한다. 논문의 접근 방법은 크게 두 단계로 나뉜다. 첫 번째 단계는 스캔 조각을 계산한다. 이 때 빠른 계산을 위해 슬랩 구조를 생성한다. 두 번째 단계는 계산된 스캔 조각을 점 광원의 배열을 생성하는 무빙 유닛으로 전송한다. 모든 점 광원의 점등 상태를 매순간 갱신하는 것이 아니라 점등 상태가 바뀌는 점 광원에 대해서만 필요한 시점에 정보를 전송하는 점진적인 갱신 방법을 택하여 데이터 전송 보다 효율적으로 수행한다. 이를 통해 대용량의 폴리곤을 매우 빠른 시간 내에 더욱 작은 메모리 공간 내에서 래스터화 하고 노광 시킬 수 있다.
