Part A
이타원체 모델을 액정상 연구에 적용 할 수 있는 새로운 단위치 모델로서 제안한다. 이 이타원체 모델은 한개의 분자를 묘사하기 위하여 두 타원체을 사용하여 한개는 분자의 구조를 또 한개는 분자의 인력 강도를 묘사 하도록 하였다. 제안하는 이 모델의 구조를 나타내는 타원체와 인력을 나타내는 타원체의 중심을 분리하면 비대칭인력을 갖는 액정을 흉내낼수 있도록 하였다. 이 이타원체 모델의 포텐셜 에너지 표면은 게이-본 모델과 비교하여 잘 맞음을 보여준다. 대칭및 비대칭 인력을 갖는 320개의 이타원체 모델 분자를 사용하여 몬테 카를로 모사실험을 수행 하였다. 비대칭 인력 모델은 대칭 인력 모델에 비하여 높은 온도에서 네마틱상-등방상 상전이 온도를 갖음 으로서 비대칭 인력은 고온 상전이를 유도하는 요소임을 보인다. 두 모델의 거리및 실린더 분포함수는 등방상에서는 비슷하게 나타나지만 네마틱 상 에서는 아주 다름을 보인다.
Part B
계면이 $C_{\infty v}$ 대칭성을 보이는 이차 광학 활성 곁가지를 갖는 고분자 막의 계면에서의 곁가지 분포 함수를 결정하는 새로운 분석 모델을 개발 하였다. 이 모델에서는 공기층, 위 이차 비선형 광학 활성 층, 이차 비선형 광학 비활성 층, 아래 이차 비선형 광학 활성층과 지지층을 갖는 다섯층 모델을 이용하여 이차 비선형 광학을 해석 하였다. 최대 자유도 방법의 두개의 결정되지 않은 변수를 두 이차 비선형 광학 활성막 위의 곁가지 분자의 방위각 분포 함수로서 구한다. 얻어진 방위각 분포 함수로 부터 곁가지의 질서도및 이차 비선형 광학 활성층의 유전율을 구할 수 있다. 이론적 계산및 실험치의 최적화를 통하여 이차 비선형 광학 활성층의 곁가지 방위각 분포 함수및 유전율을 얻는데 최초로 성공 하였다.
