서지주요정보
Laser lithography를 위한 autofocusing system 구현과 mixer의 설계 및 제작 = Implementation of the auto focusing system for laser lithography and fabrication of the mixer
서명 / 저자 Laser lithography를 위한 autofocusing system 구현과 mixer의 설계 및 제작 = Implementation of the auto focusing system for laser lithography and fabrication of the mixer / 정인호.
저자명 정인호 ; Jeong, In-Ho
발행사항 [대전 : 한국과학기술원, 1997].
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등록번호

8007794

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MEE 97083

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초록정보

The mixer masks are fabricated by using the auto focusing of the laser lithography system. The fabricated masks can be aligned within 5um tolerance and it shows that IC fabrication is possible with this lithography system. With these masks the dual - gate mixer is fabricated and conversion loss of the mixer is -20dB. Present lithography system has some problems. We can resolve these problems by modifying the control problem of the stage motor and establishing the conditions of photo resister and develop time. It is supposed that if the beam pass of laser is adjusted more precisely, we can obtain the line width less than 2um.

서지기타정보

서지기타정보
청구기호 {MEE 97083
형태사항 [ii], 45, [28] p. : 삽도 ; 26 cm
언어 한국어
일반주기 부록 : 1, EPLD 의 motor 제어 program. - 2, Laser lithography system 의 mask 제작 program
저자명의 영문표기 : In-Ho Jeong
지도교수의 한글표기 : 권영세
지도교수의 영문표기 : Young-Se Kwon
학위논문 학위논문(석사) - 한국과학기술원 : 전기및전자공학과,
서지주기 참고문헌 수록
주제 자동초점
묘화
주파수 혼합기
Auto focusing
Lithography
Mixer
Dual gate
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